日本化學材料大廠三化電子材料公司(下稱日商三化)因應台灣半導體產業成長動能強勁，其金屬薄膜用材料之研發配方獨步全球，投資新台幣3億元於竹科銅鑼園區設立新廠，於今日動土，由母公司竹中會長、太附社長及竹科管理局王永壯局長等貴賓共同動鏟，儀式簡單隆重。新廠預計2020年7月完工，屆時將共同壯大銅鑼園區半導體材料產業聚落。 日商三化之母公司為日本Tri Chemical研究所，Tri Chemical研究所於1978年設立於日本山梨縣，主要產品為矽基有機及氯化物之超高純度化學材料的研發、製造及銷售，擁有2,000種以上產品化學材料，可應用於半導體材料、光纖及太陽能電池材料等，並配合顧客需求提供客製化服務，在業界得到許多高度評價，同時積極協助半導體業者製程精細化應用發展，並落實供應鏈在地化。 日商三化銅鑼園區新廠將以半導體化學氣相沉積(CVD)製程所使用材料及綠能電池所需材料為主要開發標的，可滿足晶圓代工、記憶體製造、邏輯製造、太陽電池及燃料電池領域之需求。同時，亦針對化學藥品特殊容器與液面偵測器進行開發，預計在銅鑼園區建廠設立3年後，年度營業額可超過新台幣5億元，聘僱員工約32人（含17名研發人員），將可協助培育半導體化學材料相關人才，促進國內半導體產業鏈發展。 銅鑼園區目前已核准入區廠商家數14家，其中有3家為日商，分別為臺灣福吉米股份有限公司（半導體製程用化學機械研磨液）、台灣納美仕股份有限公司（半導體材料導電膠）及台灣東應化股份有限公司銅鑼分公司（光阻劑）。銅鑼園區位居半導體12吋晶圓廠重要聚落竹科與中科之間，將持續積極引進半導體相關零組件與原材料產業，可以預見銅鑼園區在半導體製程材料、特用化學及相關製程設備等國際大廠紛紛建立新廠後，將成為支援半導體產業發展之關鍵園區，並能夠完善國內半導體產業鏈及提升相關產業國際競爭力。 來源: